Titel
Ontwikkeling van industrieel relevante nanotechnologie voor dunne film zonnecellen (Onderzoek)
Abstract
Ontwikkeling van industrieel relevante nano-lithografie technieken, voornamelijk nano-imprint lithografie (NIL), voor de integratie van nano-structuren in dunne film zonnecellen. Deze nano-structuren zullen gebruikt worden voor passivering en texturering van de voor- en achterkant van deze zonnecellen. Via een Horizon 2020-project, namelijk ARCIGS-M, is er de mogelijkheid om samen te werken met een NIL toestel fabrikant.
Periode
01 januari 2019 - 31 december 2022