Project R-2008
Titel
Invloed van plasma-condities op de groei van dikke, vrijstaande (100) diamantlagen als bestudeerd met Time-Of-Flight. (Onderzoek)
Abstract
De hoofddoelstelling van dit project is het bestuderen van de groei en de elektrische transporteigenschappen van vrijstaande, (100) georiënteerde, CVD diamantlagen en de invloed van het diamantoppervlak op deze processen. Meer exact zal de groei toegespitst worden op hoge groeisnelheden van ongedopeerde diamantlagen. De invloed van de substraatoriëntatie, plasma behandeling voor de groei en plasmacondities zullen onderzocht worden. Verder zal, wanneer de gegroeide lagen vrijstaand gemaakt worden door de lagen van hun substraat af te halen, elektrische karakterisering gebeuren door de Time-of-Flight (TOF) techniek om de elektrische transporteigenschappen van deze vrijstaande CVD lagen te verduidelijken, gevolgd door een vergelijking met commercieel beschikbare IIa CVD diamantlagen en met natuurlijk IIa diamant. De invloed van de plasmabehandeling voor en na de groei en de contactconfiguratie bestudeerd door Time-of-Flight zijn de uiteindelijke doelstellingen van dit project.
Periode
01 oktober 2009 - 30 september 2012